광범위한 애플리케이션과 시장에 디지털 리소그래피의 이점 제공
EV 그룹(이하 EVG)은 자사의 혁신적인 MLE(Maskless Exposure) 기술의 첫 번째 제품 플랫폼인 LITHOSCALE® 마스크리스 노광 시스템을 출시한다고 밝혔다.
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LITHOSCALE은 EVG가 첨단 패키지, MEMS, 생체의료, IC 회로 기판 제조 등 높은 수준의 유연성이나 잦은 제품 변화를 요구하는 시장과 애플리케이션의 리소그래피 수요에 대응하기 위해 개발됐다.
LITHOSCALE은 노광 면적 제한이 없이 강력한 디지털 처리가 가능하여, 마스크 데이터의 실시간 전송을 통한 즉각적인 노광을 가능하게 하며, 뛰어난 확장성 등의 장점을 갖추고 있다. 그 결과, 시중의 기존 마스크리스 노광 시스템보다 처리용량이 최대 5배 향상된 세계 최초의 대량생산(HVM)용 마스크리스 리소그래피 시스템으로서 탄생할 수 있었다. EVG는 이미 LITHOSCALE에 대한 몇 건의 주문을 수주했으며, 올해 말부터 고객들에게 시스템 출하를 시작할 예정이다.
LITHOSCALE은 강력한 디지털 인프라 덕분에 처리능력을 떨어뜨리지 않으면서 전체 기판 표면에 고해상 (2미크론 L/S 이하)의 스티치 없는 마스크리스 노광을 제공하므로, 즉각적인(load and go) 마스크 레이아웃 변경은 물론, 처리능력을 극대화할 수 있도록 다중 노광 헤드 구성도 가능하다. 기존의 레티클 크기보다 큰 인터포저용으로 스티치 없는 패턴 생성이 가능한 LITHOSCALE의 능력은 첨단 그래픽 처리, 인공지능(AI), 고성능 컴퓨팅(HPC)에 요구되는 복잡한 레이아웃을 갖는 첨단 기기용으로 특히 유용하다.
이 시스템의 탁월한 정밀도는 왜곡이 없는 광학 정확도 및 스테이지 배치 정확도와 결합하여, 기판 전체에 걸쳐 스티치 없는 패터닝을 보장한다. 또한 LITHOSCALE은 동적 정렬 모드와, 오토 포커스(AF)를 이용한 다이 레벨 보정 기술을 채택하고 있어, 기판 재료와 표면 변화에 무관하게 최적의 오버레이 성능을 유지할 수 있다.
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