KLA-Tencor는 WaferSight™ PWG(패턴 웨이퍼 형상 계측 시스템)와 LMS IPRO6(레티클 패턴 레지스트레이션 측정 시스템), K-T AnalyzerⓇ9.0(고급 데이터 분석 시스템)을 출시했다.

이 세 가지 신제품은 패터닝 공정 제어의 5가지 요소, 즉 3차원적 구조를 가진 디바이스, 결과 도출 시간 및 전반적인 장비 효율성을 해결하는 KLA-Tencor의 고유한 5D™ 패터닝 제어 솔루션을 지원한다.



WaferSight PWG는 이미 여러 IC 제조업체에 첨단 IC 디바이스 개발 및 생산용으로 설치되어 다양한 공정에서 유발된 패턴 웨이퍼의 지오메트리를 측정함으로써 칩메이커가 패터닝에 영향을 미치는 공정의 변화를 식별하고 모니터링하는 데 도움을 준다.

특히 업계 유일하게 웨이퍼를 수직으로 세워 측정하여 중력으로 인한 웨이퍼의 변형을 최소화하고 웨이퍼당 350만 개의 데이터 샘플링을 바탕으로 고도로 정확한 웨이퍼 shape을 생성한다. 이러한 데이터를 리소그래피 모듈에 피드 포워드하면공정으로 기인한 shape을 최적화한 스캐너 수정을 통해 패턴 오버레이를 개선할 수 있다.

LMS IPRO6은 주요 마스크 샵에서 웨이퍼 레벨 패턴 오버레이 오류의 직접적인 원인이 되는 레티클 패턴 배치 오류를 포괄적으로 통제 제어 및 특성화하기 위한 용도로 사용되고 있다. LMS IPRO6만의 고유한 모델 기반 측정 기술은 표준 레지스트레이션 마크는 물론, 실제 디바이스 셀의 패턴이 가지는 레티클 레지스트레이션까지 정확하고 신뢰성 있게 측정하여 훨씬 빠르고 높은 샘플링률을 제공한다.

K-T Analyzer 9.0은 오버레이, 레티클 레지스트레이션, 웨이퍼 형상, 필름, CD 및 Profile 측정 시스템을 비롯하여 다양한 측정 시스템 유형에 걸쳐 고급 실시간 데이터 분석이 가능한 업계 표준 플랫폼의 최신 버전이다. K-T Analyzer 9.0에는 제품마다 Lot 단위로 스캐너 수정을 계산하는 인라인 방식의 기능이 내장됐다.

한편 WaferSight PWG와 LMS IPRO6 및 K-T Analyzer 9.0은 KLA-Tencor의 포괄적인 5 D 패터닝 제어 솔루션을 구성하는 구성 요소로 이 솔루션에는 오버레이, 필름, CD 및 Profile 측정 시스템과 PROLITH™ 리소그래피 및 패터닝 시뮬레이터가 포함된다.

www.kla-tencor.com