높은 경제성과 생산성을 실현하는 193nm 기술
20nm 이하의 설계 노드를 위한 IC 반도체 공장 레티클 모니터링

KLA-Tencor Corporation(NASDAQ: KLAC)은 오늘 20nm 이하의 설계 노드를 지원하는 IC 반도체 공장용의 새로운 레티클 품질 제어 솔루션인 Teron™ SL650을 발표했다. Teron SL650은 193nm 조명 기술과 다양한 STARlight™ 옵틱 기술을 기반으로 입고되는 레티클의 품질을 평가 및 레티클 변형을 모니터링하고, 패턴이 형성된 부분과 개방부의 헤이즈(haze) 증가 또는 오염과 같은 수율에 영향을 주는 불량을 감지하는 데 요구되는 감도와 유연성을 제공한다. 또한 업계 최고 수준을 자랑하는 Teron SL650의 생산 처리량은 어드밴스트 멀티패터닝(advanced multi-patterning) 기법과 관련하여 많은 수의 레티클을 검증하는 데 필요한 빠른 사이클 타임을 지원한다.

KLA-Tencor 레티클 제품 사업부(RAPID) 부사장 겸 사업 본부장인 야린 슝(Yalin Xiong) 박사는 "IC 제조업체에게 있어 레티클의 상태를 파악하는 것은 패터닝 공정 제어의 핵심적인 단계다. 레티클 품질에 변화가 있을 경우 인쇄하는 모든 웨이퍼에 심각한 영향을 미칠 수 있기 때문이다"라며 "우리 팀은 Teron SL650을 기반으로 IC 반도체 공장에 적합한 소형화된 플랫폼에 첨단 레티클 검사 기술을 적용했다. 그 결과 높은 감도와 생산성은 물론, 향후 노드를 추가할 수 있는 확장성까지 갖춘 레티클 품질 제어 시스템이 구축됐다. Teron SL650은 입고되는 레티클에서 중대한 불량을 모니터링하고 생산 중 발생하는 점진적인 불량과 마스크 패턴의 변화를 식별함으로써 칩 제조업체가 디바이스 수율, 성능, 사이클 타임을 확보하는 데 도움을 줄 수 있다"고 말했다. 

Teron SL650에는 각각 싱글 다이 레티클과 멀티 다이 레티클을 지원하는 STARlightSD™ 및 STARlightMD™가 사용되어 공장 내에서 다양한 레티클 유형을 혼용할 수 있기 때문에 불량 포착 성능이 우수하고 포괄적인 검사가 가능하다. 또한 칩메이커는 혁신적인 STARlightMaps™ 기술을 사용하여 시간 경과에 따른 레티클 변형을 추적하고 CD, 박막 두께, 반사 방지 코팅 및 기타 레티클 전반에 걸친 변화를 식별할 수 있다. 이러한 레티클 품질의 변화는 인쇄 공정 윈도우 또는 패턴 인쇄에 영향을 미칠 수 있다. 뿐만 아니라 Teron SL650은 EUV 표준에 부합하므로 공장 내 EUV 레티클 검사 요건과 관련하여 IC 제조업체와 조기에 협력할 수 있다.

Teron SL650 레티클 검사 시스템은 이미 전 세계의 여러 반도체, 로직 소자 및 메모리 제조업체에 설치되어 입고 품질 검사와 고급 IC 제조에 사용되는 레티클의 재검증에 활용되고 있다. 첨단 생산 환경의 높은 성능 및 생산성 요구 사항을 지속적으로 지원하기 위해 KLA-Tencor는 포괄적인 글로벌 서비스망을 통해 Teron SL650 시스템을 지원한다. Teron SL650 레티클 검사 시스템에 대한 자세한 정보는 RAPID IC 팹 시리즈 제품 페이지에서 확인할 수 있다.

KLA-Tencor 소개:
KLA-Tencor Corporation은 공정 관리 및 수율 관리 솔루션 공급업체의 선두 기업으로서, 전 세계 고객들과 협력하여 최첨단 검사 및 측정 기술을 개발하고 있다. 이러한 기술은 반도체, LED 및 기타 관련 나노 전자부품 산업에 사용된다. 업계 표준 제품의 포트폴리오와 세계적인 수준의 엔지니어/연구 팀을 보유하고 있는 KLA-Tencor는 35년 이상 고객을 위한 우수한 솔루션을 만들고 있다. 미국 캘리포니아주 밀피타스에 본사가 있는 KLA-Tencor는 전 세계적으로 고객 영업 및 서비스 전담 센터를 운영하고 있다. 보다 자세한 정보는 http://www.kla-tencor.com(KLAC-P)에서 참조할 수 있다. 
 
전망 기술:
이 언론 보도 자료에서 발표된 Teron SL650 레티클 검사 시스템의 예상 성능, 향후 추가 기술 노드로의 Teron SL650 레티클 검사 시스템의 확장성, 반도체 산업의 추세 및 그와 관련하여 예상되는 과제, KLA-Tencor 고객의 Teron SL650 레티클 검사 시스템의 예상되는 사용 방식, Teron SL650 레티클 검사 시스템 사용자에게 예상되는 비용 및 운영상/기타 이점 등의 내용은 미래를 전망하는 내용으로, 1995년의 Private Securities Litigation Reform Act(증권민사소송개혁법)에 따라 제정된 Safe Harbor(면책 규정) 조항의 적용을 받는다. 이러한 전망에 대한 내용은 현재 정보와 예측을 근거로 이루어졌으며 많은 위험성과 불확실성이 수반된다. 신기술 채택의 지연(비용 또는 성능 문제 또는 다른 이유로 인해), 다른 회사에서 제공하는 경쟁제품의 도입, KLA-Tencor 제품의 구현, 성능 또는 사용에 영향을 주는 예상치 못한 기술적 어려움이나 한계 등 다양한 요인으로 인해 실제 결과는 해당 내용에서 예측된 것과 크게 다를 수 있다