빅트렉스 폴리머 솔루션즈는 타이완의 구뎅정밀산업이 빅트렉스 ESD101 PEEK 폴리머를 핵심 부품으로 선택하여 극자외선 (EUV) 리소그래피 포드(Pod)를 최초로 상용화하여 출시했다고 발표했다. 구뎅의 EUV 리소그래피 포드는 빅트렉스 ESD101 PEEK 폴리머의 복합 소재 물성을 통해 고유한 기술적 이점을 갖게 되고 웨이퍼 생산 효율성과 파장 193nm 이하의 차세대 광원 어플리케이션의 수율을 높일 수 있게 되었다.
EUV 기술을 이용해 웨이퍼를 성공적으로 제작하려면 처리 과정에서 레티클이 오염되지 않도록 캐리어 소재를 더욱 향상시켜야 할 것이다. 특히 더 작은 공간 안에 더 많은 기능을 포함시켜야 할 때 트랜지스터의 밀도를 높이면 회로가 축소되는데 이러한 상황에서는 캐리어의 개선이 더욱 요구된다. ISMI와 ASML이 공동 규정한 사양을 토대로 고안된 구뎅의 이 새로운 EUV 포드는 금속으로 만든 내부 포드와 빅트렉스 ESD101 PEEK 폴리머로 만든 외부 포드를 갖춘 듀얼 포드로 설계되어 있어 무오염 환경을 유지시켜 준다. 또한 구뎅의 EUV 포드는 SEMI E152 표준을 준수하고 있다.
“이머션 기법과 더블 패터닝 기법을 이용해도 파장 193nm의 광원을 사용하는 현재의 리소그래피 기술은 20nm 공정이 한계입니다. 그래서 더 작은 공간에 더 많은 기능을 구현하려는 최종 사용자들의 바람에 따라, 향후 몇 년 동안 더 작은 크기의 집적회로를 만들 수 있게 하는 EUV 기술 개발 추세는 계속 이어질 것입니다. 또한 파장 13.5nm의 EUV 광원을 사용하는 설계규칙으로는 14nm 공정까지 가능할 수 있습니다.” 라고 구뎅정밀산업의 회장 빌 치우는 말했다.
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