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노벨러스 시스템,45나노 이하 세대 대량생산을 위한 자외선 열공정 장치(UVTP)인 SOLA®xT 설비
45나노 이하 세대 대량생산을 위한 자외선 열공정 장치(UVTP)인 SOLA®xT 설비
노벨러스 시스템은 차세대 자외선 열공정 장치인 SOLA® xT 설비를 발표했다. SOLA® xT는 45nm이하의 발전된 로직 디바이스의 제조 과정에서 사용되며, 자외선과 열에 노출시킴으로써 미리 증착된 막의 물리적 특성을 변경시키는 자사의 자외선 열공정을 통합한다. 자외선 모니터링 기능이 탑재되어 있고 광 어셈블리 선택 기능을 갖춘 새로운 시스템은 여러 세대의 디바이스에 공정의 호환성과 확장성을 제공한다. 첫 SOLA® xT 시스템은 싱가포르에 위치한 UMC의 Fab 12i에 보내질 예정이다.
SOLA의 다층순차공정방식(MSSP)은 각 스테이션의 히터온도, 자외선 파장 및 강도 조절을 개별적으로 가능하게 함으로써 최상의 막 균일성과 생산성을 제공한다. 이와 같은 높은 수준의 공정 구성에서 자외선 처리된 ULK막의 강도는 단파장과 동일 온도에서 처리된 솔루션에 비해 25퍼센트 더 강하다. 예를 들어 설명하자면, 자외선 열공정(UVTP)은 다공성 물질을 제거하는데 사용되고 금속 층간 절연막으로 사용되는 ULK 유전막의 기계적 강도를 개선시킨다.
이런 처리과정은 디바이스 집적을 용이하게 하며 화학적, 물리적평탄화(CMP)와 Packaging과 같은 후속 반도체 제조공정에서 막이 잘 버티도록 한다. 다른 진보된 디바이스 집적 형식은 스핀방식으로 증착된 유전막을 사용하며, 이 공정은 가끔씩 식각, 세정 또는 감광물질 제거과정에서 막의 손상을 초래하기도 한다.
“새로운 SOLA® xT는 32나노 소자의 대량 생산에 적합한 자외선 열공정 설비의 높은 시장요구를 만족시키기 위해서 만들어졌습니다.”라고 노벨러스 PECVD사업부문 부사장인 케빈 제닝스가 말하며 “온도, 자외선 파장 및 강도를 독립적으로 조절할 수 있어 SOLA? xT는 새로운 물질이 도입되더라도 미래의 기술세대까지 적용이 될 수 있습니다.”라고 덧붙였다.
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